• 登录
社交账号登录

UVW对位平台(高精度型)

作者:zhao 更新时间:2020-11-26 点击数:

 
  专利背隙消除技术、可减少因机件磨耗所造成的误差。
 
  安装容易、有效协助系统业者节省机台设计及组装时间。
 
  精简模组化设计、有效降低製造成本。
 
  平台採用中空设计重量轻,方便应用于各式光学检测(背光检测)。
 
  所有精密零组件皆由台湾生产製造、可靠度高。
 
  使用研磨级高精度滚珠螺杆定位、对位精度高。
 
  可内建光电式极限开关(光电感测器3点:Home、+Limit、+Limit)。
 
  对位精度高、移动速度快、提高对位速度且价格经济实惠。
 
  表面黑色阳极处理。
 
  对位平台作动速度快,长时间对关键零组件机构磨耗大、背隙也加大、且零组件之寿命会减短;因而产生对位精度差,且可能需来回对位多次,浪费业主的生产时间、降低生产速度、且良率差。
 
  而本公司所发明的专利正可解决此等问题。本公司所生产的对位平台,用消除背隙之方法延续对位平台的寿命,维持住长时间的对位精度,当然自然会降低业者的风险且降低业主的购置成本。
 
  应用场合如:曝光机、LED检测、LCD检测、雷射切割、晶圆切割、晶圆检测、视觉检测、光学检测、贴合机、网印机、PCB对位机.....等等。